(北京25日讯)今年11月份,中国从荷兰进口的关键晶片制造光刻系统的价值激增了1050%,这表明在美国收紧出口规定之后,中国国内半导体公司尚未被切断接收某些先进设备订单的管道。
据法国广播电台引述香港《南华早报》上周五的报导,11月,中国从荷兰进口的关键晶片制造光刻系统的价值激增了1050%。上个月,中国进口了16台荷兰投影系统,价值7亿6270万美元(约35亿令吉),同比增长10倍。
相比之下,10月份中国进口了21台光刻系统,价值6亿7250万美元(约31亿令吉)。平均单价相差46%,这表明中国企业正在继续获得更先进的系统,尽管华盛顿一直试图阻挠这种努力。
荷兰是光刻机的最大出口国,光刻机用于制造世界上最先进的晶片,几乎所有的光刻机都来自一家公司--阿斯麦(ASML)。
还进口15台日本光刻机
《南华早报》报导称,11月份,中国总共进口了42台光刻系统,总价值达8亿1680万美元(约37亿8401万令吉)。其中15台来自日本,日本是业界重量级企业佳能(Canon)和尼康(Nikon)的总部所在地。荷兰和日本加在一起,几乎占据了中国上个月进口光刻机的全部金额。
报导称,光刻工具是一种复杂的投影系统,是集成电路制造过程中所需的10类设备中最重要的一类。中国在这项技术上被认为落后多年,虽然政府投入了大量资金,但在很大程度上仍未能缩小与领先企业的差距。
中国政府多年来一直在推动技术自力更生的议程,但根据国家支持的CanSemi公司在8月份的一次行业论坛上提供的数据,截至2021年,中国晶圆厂使用的光刻系统中只有不到5%是中国制造的。
美国商务部在10月份扩大了针对中国的出口管制规则后,中国的进口量连续两个月飙升。在有关光刻系统部分,美国废除了适用于某些深紫外线(DUV)工具的“微量”规则,该规则比荷兰政府9月份生效的出口规则设定了更高的标准。
《南华早报》说,如果非美国公司的任何产品含有至少25%的美国原产技术,则微量规则赋予华盛顿对该产品的长臂管辖权。
然而,该规则的最新调整实质上使得此类技术的比例变得无关紧要。新规定从上月起生效,限制总部位于荷兰的阿斯麦公司向中国(该公司的第三大市场)少数从事先进半导体制造的工厂出售某些浸没式DUV光刻系统,包括其Twinscan NXT:1980Di光刻系统。
不过,阿斯麦首席执行员Peter Wennink表示,最新的限制措施将绝大多数中国客户排除在外,因为这些客户涉足的是成熟或传统的半导体制造,即28奈米及以上的半导体制造。