（首尔9日讯）韩联社周日报导，韩国一名SK海力士公司的前员工，因向中国企业泄漏有关半导体制造技术的资讯，被判处18个月有期徒刑。
韩联社表示，据韩国法律界消息，首尔高等法院刑事审判第10-1庭近期对涉嫌违反《产业技术保护法》《防止不正当竞争和保护商业秘密》、背信罪的SK海力士前职员金某判处有期徒刑1年零6个月，对这起上诉案维持一审的原判。
法官认定，被告金某于2022年向一家中国公司泄漏了SK海力士的商业机密文件，违反了公司的安全规定。
被告曾在SK海力士驻中国办事处工作，法官认定，他从海力士内部伺服器下载资料，将资料拍摄或列印下来，放在求职履历中，交给中国某家公司；那是海力士用于智能手机相机、笔记型电脑的图形传感器（CIS）相关尖端技术和商业秘密。
法院并未公开中国公司名称。但韩联社引述消息指，金某作案前曾收到中国华为旗下海思技术有限公司跳槽提议。
就量刑理由，二审法院表示，被告人泄露的商业秘密是公司多年投入大量资源而取得的成果，若对金某从轻处罚，会削弱公司的技术研发动力，且使得海外竞争公司以人才引进为借口轻易夺取国内企业刻苦钻研的技术。
报导指出，被告已承认所有指控，SK海力士也追回他所带走的绝大部分资讯。
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